晶圓級封裝——熱機械失效模式和挑戰及整改建議

摘要

WLCSP(WaferLevelChipScalePackaging，晶圓級封裝)的設計意圖是降低晶元製造成本，實現引腳數量少且性能出色的晶元。晶圓級封裝方案是直接將裸片直接焊接在主板上。本文旨在於介紹這種新封裝技術的特異性，探討最常見的熱機械失效問題，並提出相應的控制方案和改進方法。

晶圓級封裝技術雖然有優勢，但是存在特殊的熱機械失效問題。很多實驗研究發現，鈍化層或底層破裂、濕氣滲透和/或裸片邊緣離層是晶圓級封裝常見的熱機械失效模式。此外，裸片邊緣是一個特別敏感的區域，我們必須給予更多的關注。事實上，扇入型封裝裸片是暴露於空氣中的（裸片周圍沒有模壓複合物覆蓋），容易被化學物質污染或發生破裂現象。所涉及的原因很多，例如晶圓切割工序未經優化，密封環結構缺陷(密封環是指裸片四周的金屬花紋，起到機械和化學防護作用)。此外，由於焊球非常靠近鈍化層，焊球工序與線路後端棧可能會相互影響。

本文採用FEM(FiniteElementMethod，有限元法)方法分析應力，重點放在扇入型封裝上。我們給出了典型的應力區域。為降低機械失效的風險，我們還簡要介紹了晶圓級封裝的特異性。在描述完機械失效后，我們還對裸片和鈍化邊緣進行了全面的分析。分析結果顯示，鈍化邊緣產生最大應力，這對沉積策略(直接或錐體沉積方法)和邊緣位置提出了要求。此外，研究結果還顯示，必須降低殘餘應力，並提高BEoL(線路後端)的鈍化層厚度。

1.前言和背景

晶圓級封裝的設計意圖是降低晶元製造成本，實現引腳數量少且性能出色的晶元。晶圓級封裝方案是直接將裸片直接焊接在主板上。雙層電介質、RDL(ReDistributionLayer,重新布線層)、UBM(可焊接薄層，用於焊球底部金屬化)和焊球都位於標準BEoL棧之上。因此，這些層級擴展了傳統晶片製程(多層沉積薄膜配合光刻工藝)範圍。晶圓級封裝的焊球工藝與倒裝片封裝非常相似。

圖1：)[A]扇入型封裝(晶圓級封裝)和[B]扇出封裝(封裝大小取決於裸片邊緣與裝配棧層的間隙)

晶圓級封裝主要分為扇入型封裝和扇出型封裝(圖1)兩種。扇入型封裝是在晶圓片未切割前完成封裝工序，即先封裝后切割。因此，裸片封裝后與裸片本身的尺寸相同(圖2[A])。扇出型封裝是先在人造模壓晶圓片上重構每顆裸片，「新」晶圓片是加工RDL布線層的基板，然後按照普通扇入型晶圓級封裝后工序，完成最後的封裝流程(圖2[B])[1-2-3-4-5]。

圖2：扇入和扇出型封裝流程

這裡需要說明的是，為提高晶圓級封裝的可靠性，目前存在多種焊球裝配工藝，其中包括氮化物層上焊球[6]、聚合物層上焊球[7-8]、銅柱晶圓級封裝等等。本文重點討論在RDL層/聚合物層上用UBM層裝配焊球的方法(圖3)。

圖3：採用聚合物方案裝配UBM焊球

下一章重點介紹晶圓級封裝特有的熱機械失效現象。

2.晶圓級封裝集成技術引起的熱機械問題

本文特別分析了發生在BEoL層遠端(Far-BEoL)和BEoL層的熱失效問題。焊球疲勞等與裸片封裝相關的失效模式不在本文討論範圍，想了解更信息，請查閱相關資料，例如本文後面的文獻[9]。我們先用BEoL層大面積離層實驗圖解釋裸片邊緣敏感性問題，然後討論焊球附近區域是BEoL遠端層破裂的關鍵位置。

-裸片邊緣

扇入型標準封裝裸片是直接暴露於空氣中(裸片周圍無模壓複合物)，人們擔心這種封裝非常容易受到外部風險的影響。優化晶片切割工藝是降低失效風險的首要措施。為防止破裂在封裝工序和/或可靠性測試過程中曼延，必須控制切割工序在裸片邊緣產生的裂縫(圖4[A])。此外，這種封裝技術的聚合物層末端靠近裸片邊緣，因為熱膨脹係數（CTE）失匹，這個區域會出現附加的殘餘應力。

為預防這些問題發生，最新技術提出有側壁的扇入型封裝解決方案。具體做法是，採用與扇出型封裝相同的製程，給裸片加一保護層(幾十微米厚)，將其完全封閉起來，封裝大小不變，只是增加了一個機械保護罩。

圖4：在BEoL內部的裸片邊緣離層；[A]扇入型封裝[B]扇出型封裝

樹脂、聚合物層和裸片邊緣相互作用，致使扇出型封裝的失效風險增加(圖4[B])。

在這種情況下，密封環結構是一個有效的壓制應力的方法。作為BEoL層的一部分，密封環是圍繞在裸片四周的金屬圖案，具有防護作用，避免化學污染和裂縫曼延，然而這個結構不足以預防所有的失效問題，所以，必須從以下兩方面進行優化：

-焊球和鈍化層下面

晶圓級封裝的焊球可以裝配在BEoL層上面。鈍化層、UBM層和焊球組件具有不同的熱膨脹係數，這會在聚合物層上產生應力，在某些極端情況下，甚至還會導致聚合物層破裂，並有可能最終曼延到BEoL棧。BEoL的最上層是鈍化層，是由氧化物層和氮化物層組成，前者是化學污染保護層，後者則用於預防機械應力。如果鈍化層受損，裸片就會受到各種形式的污染，導致電氣失效。因此，必須精心設計BEoL遠端層(RDL、焊球和聚合物)。RDL層的密度及其布線需要分佈均勻。聚合物及其沉積方法的選擇對於器件的可靠性也很重要。圖5描述了某些典型缺陷。

圖5：[A]焊球靠近鈍化層而引起聚合物層破裂的頂視圖[B]在整個棧內出現破裂的BEoL遠端層和BEoL層的橫截面

解決這些問題需要我們深入了解相關結構和專用的優化方法。

3.有限元法數值分析

本文重點介紹扇入型封裝配置。需要說明地是，某些分析結果同樣適用於扇出型封裝解決方案(例如，焊球附近結構)。

數值模型

我們使用Ansys的商用軟體進行了有限元法分析。第一步是創建一個3D封裝模型，以了解WLP封裝的應力分布區域。我們探討了焊球附近和裸片邊緣附件的應力分佈情況。出於對稱性考慮，只描述封裝的四分之一(圖6)。

圖6：有限元法3D扇入型封裝模型[A]獨立封裝[B]組裝好的封裝

第二步是簡化BEoL層和聚合物層的建模，用一個20D模型進一步探討各層之間的相互作用(圖7)。這個棧包括四個頂層共行覆膜的金屬層和一個標準的密封環結構。為避免數值錯誤，所有配置均保持網格不變，並根據結果分析材料性質。

圖7：有限元法2D模型包括標準密封環和聚合物層末端

我們對兩個模型都施加了225°C至25°C的熱負載，模擬迴流焊工序，並做了一個線彈性分析。

概述

我們可以考慮獨立封裝(圖6[A])和安裝在主板上的封裝(圖6[B])兩種封裝工藝。本文主要討論前者，讓讀者初步了解WLCSP封裝的特異性。

BEoL層應力如圖8所示。在這樣一個配置中，因為焊球和外圍器件的熱膨脹係數失匹，每個焊接區都會發生類似的應力問題。此外，在裸片外圍可以看到聚合物層邊緣的影響(見圖8中的箭頭)。因此，我們已開始懷疑聚合物、焊球和裸片邊緣的相互作用。需要指出的是，在這個層面，應力的產生唯一原因是本地的熱膨脹失匹，而與封裝尺寸大小無關。

圖8：BEoL區的S1應力分量(MPa)-獨立配置(頂視圖–重點分析封裝角部)

一旦組裝到主板上后，應力區域特性接近在標準倒裝片配置上觀察到的應力區域[10]。在最外層焊球區域觀察到應力最大值，因為最外層焊球到中性點(DNP)(即封裝中心)的距離最遠(圖9)。我們還觀察到，焊球下面的應力分佈受焊球至封裝中心的相對位置的影響。因此，壓縮力和拉伸力區域方向隨焊球位置不同而變化。

圖9：BEoL區的SZ應力分量(MPa)-組裝到主板上的封裝(頂視圖)

與獨立封裝相比，已焊接的焊球使焊盤受到更大的應力。不過，無論封裝尺寸多大，裸片和聚會物邊緣受到的應力都會保持不變。

聚合物層

聚合物邊緣可選用兩種設計策略，錐體或直接沉積方法，具體選用哪一種方法，取決於第二層聚合物止於第一層薄膜之前還是之後。我們從機械學角度評測兩個配置，在BEoL區域內，沿裸片對角線提取應力值(圖10)。因為關注點放在了聚合物邊緣，所以圖中只給出了封裝的角部受力情況。如前文所述，在BEoL區能夠觀察到焊球的影響(見圖中的反覆出現的圖形)。此外，正如我們所預想的，在聚合物邊緣發現了應力最大值，不過，應力的影響只限於這個區域。有限元分析顯示，與錐體沉積法相比，直接沉積法的應力更高，這是因為前者邊緣處聚合物厚度較大。兩種沉積方法導致厚度相差大約5%(圖10(B))。

圖10：[A]直接配置和錐體配置的BEoL層和聚合物層應力分布圖[B]BEoL棧周圍應力變化(見應力提取通道圖[A]上的灰箭頭)(獨立封裝配置)

在決定了邊緣設計方法后，我們需要確定在BEoL棧上發生較低應力的準確位置。為此，我們測試了各種位置：平坦區(圖11#1,#4)、密封環(圖11#6)上方、鈍化拓撲底部不同位置(圖11#2#3#5)。

圖11：有聚合物的配置與無聚合物的配置之間的應力變化。在SiN鈍化層內提取拉伸應力Sy。不同配置間的應力差異主要出現在聚合物邊緣。

鑒於聚合物末端在BEoL棧上產生拉伸性負載，確定選項#6為首選。因此，密封環的『錨定』特性可限制其潛在的不利影響。為辨別結構差異，關注點放在鈍化層應力上。

不出所料，發現兩個大類：第一類(#2,#3)是聚合物層末端靠近一個幾何奇點，引發最大應力；第二類(#1,#4)是聚合物層末端在一個平坦面上，這裡觀察到最小應力。提案#6(即密封圈上方)的改進作用並不明顯，需要說明地是，這可能是所用分析標準造成的，本文只分析了SiN層的完整性，BEoL中間層的離層風險並未視為一種失效模式。基於這些結果和過程可變因素，將邊緣置於較大的平坦區域是比較安全的，這對應配置#4。

鈍化性質

聚合物層邊緣、暴露於空氣中的結構和焊盤的存在，讓WLCSP封裝的鈍化層成為一個重要區域。開發人員可以從厚度和殘餘應力角度探討最佳設計。因為我們跟蹤的失效類型是機械失效，所以討論重點放在氮化物層的特性方面。為此，我們測試了不同厚度與殘餘應力的相對變化，見表1

表1.探討過的參數表

參考

SiN厚度AA+ (+23%)A- (-23%)

殘餘應力BB+ (+23%)B- (-23%)

圖12：[A]SiN厚度的影響[B]SiN殘餘應力的影響

應力是從聚合物層下面的SiN層提取的(圖12)。測試結果顯示，SiN越厚，應力越小。還應記住，如果厚度較大，真層拓撲可能會更平滑，奇點更少，因此，可降低失效風險。關於殘餘應力影響，根據最初假定值，最終應力被遷移。因此，通過降低殘餘應力，降低了最終應力狀態的數學值。不過，增加厚度方法不能隨意修改，還要記住對其它特性(例如，電氣、可靠性和熱變形)的影響。因此，必須找到一個折衷的辦法，考慮到所有的副作用。

4.結論

本文概述了WLCSP晶圓級封裝的特異性，先簡要介紹了扇入和扇出型封裝特異性以及封裝流程；然後，描述了在製程工序和/或可靠性測試期間發生的不同的熱機械失效。裸片邊緣帶和焊球四周是高度敏感區域，發生過很多失效問題。為更深入地了解所涉及的結構，本文採用有限元法分析了WLCSP封裝失效問題。首先，建立一個3D封裝模型，初步了解扇入型封裝的熱機械特性。研究發現，焊球和聚合物邊緣是影響可靠性的重要位置。然後，用一個2D模型深入分析聚合物邊緣的影響，優化BEoL層。實驗發現，終止在平坦區域的錐體沉積法可降低在BEoL鈍化層發生的應力。最後，我們研究了SiN厚度及殘餘應力的影響，並建議提高SiN層厚度，以降低殘餘應力。

本文能夠讓讀者朋友更好地了解WLCSP封裝在機械性能方面的特異性。通過介紹一組與有限元法結果相關的典型失效，我們概括了主要有效參數和可靠性改進建議。